Stage4、Boss、その二
一見手も足も出ないように思えますが、それでも避けパターンは存在します。
本章の最後には、筆者がどうやってこのパターンにたどり着いたかを記しておきます。
まず、各攻撃を簡単に眺めて見ましょう。
自機狙いの赤弾を大量にばら撒きます。
ボスのこの形態では、誘導レーザーは二回放たれます。
名前の通り、4ウェイ弾4連射が、ボス左右から同時にあります。
基本的性質は誘導レーザー1と同じです。
では、具体的な避けパターンに入りましょう。
ただし、一つ重要な点があります。
左上から始まるのは、直前の赤弾を避けた結果です。
以上のパターンによって、かなりダメージを受ける機会は減らせるはずです。
とりあえずは、ビット二つを破壊した後は一切ショットを撃たずに逃げ回って練習するのがよいでしょう。
常に次の弾除けを考えることが必要なので、そこから学ぶべきことは大変に多いはずです。
最後に、どのようにこのパターンを導いたかです。
ところがこの直後は自機狙いの青弾攻撃です。
ただ、パターンを逆転させるには、レーザー攻撃が始まる以前からボス左に待機していなくてはなりません。
話題は戻り、左下で青弾を避ける必要が生じます。
次は再び誘導レーザー。
直前のレーザーは画面中央付近で避け終わります。
ところが、赤弾を上に避ける過程で画面端と赤弾に挟まれる事態が1/3程度の確立で発生します。
そこで筆者は、ならばボスを右に誘導すればよいと考えました。
そこで次に考えたのは、赤弾をできるだけ画面上部から避け始めれば時間が稼げるということです。
そこで最後に気がついたのは、赤弾をゆっくり引き付けて動けばよいということです。
これで問題なく最初のレーザーを避けられる位置に戻れます。
ビットを全て破壊した場合の本体の攻撃
ボス本体は以上の4種類の攻撃を順に繰り返します。
今までのビットがあった場合よりもはるかに難しくなります。
ある意味、この形態にしてはいけない、といってもあながち間違いではないでしょう。
まずShooting Game(仮)の1周クリアを目指すうちは、この形態にしないことを目標とするべきです。
少々のアドリブを含みますがほぼノーダメージで抜けられます。
応用性の高いパターンですので、是非こちらも身につけておきましょう。
本質は、具体的パターンを導く思考過程そのものに存在するといってよいでしょう。
ならば本論においても重要なのは、こちらのパターンにいたる過程であるかもしれません。
そしてこれを読まれれば、パターンを作成する過程を理解することができるのではないかと思います。
ちなみに筆者がこのパターンを確立できたのは、1周クリアよりも後のことです。
シューティングでは、必ずしも簡単な順で進むわけではないことがよくわかりますね。
ある難所を自分の能力で通過できるか否かを判断するのは、シューティングでは重要なことです。
練習効率から考えて、先に簡単なものを終了させてから戻ってくるのが賢明というものでしょう。
通常のシューティングの場合、(その時点での)自分の能力を超えることがわかればボムを撃つことが可能となります。
その発射時間は極めて長く、うまく誘導することが必要です。
さもなければ、画面端と赤弾に挟まれてミスは必至でしょう。
明確な相違があり、それは発射時間の長さです。
こちらの、「誘導レーザー1」のほうが発射時間ははるかに長いです。
最初にこのボスのビットを両方壊して、「難しい」、「無理だ」、と感じさせてくれるのがこのレーザーでしょう。
名前の通り、自機狙いです。
ならば対策は明らか、一方向に動きつづけるのみですね。
ただ、レーザーのスピードがかなり速く、全速で動かないとほぼ確実に被弾します。
どうやってそれだけ広い避けスペースを作るか、の問題ですね。
偶数弾ですから動かなければ当たらないはずです。
しかしながら直前直後のレーザーの誘導に忙しく、この攻撃の発射前からじっくり静止しているのはほぼ不可能でしょう。
そのために、否応なくアドリブ避けに持ちこまざるをえません。
ただこの場合でも、できる限り小さく避けて敵弾の狙いをばらさないほうが、楽に避けられます。
ただ発射時間が短いので、誘導がその分楽でしょう。
これらの攻撃は、最初の位置どりの時点で既に避けられるか否かが決定するものがほとんどです。
したがって4つの攻撃は、それぞれ次の攻撃を避けられるように動くことが必要となってきます。
赤弾は中央下付近から始まって、左端、左上と大きく動いて避けます。
中央下付近から始まるのは、直前のレーザーの避け終わりの位置だからです。
そして左上に上るのは、次のレーザーを避けるためです。
中央下から一気に左端上と移動すると、上移動中に画面左端と赤弾に挟まれることがあります。
そこで左図の楕円付近でしばらく静止し、ある程度赤弾を引き付けなくてはなりません。
そうして時間を稼げば、弾と画面端に挟まれることもなくなるでしょう。
誘導レーザー(1)は、画面左上から下、右端と移動します。
このレーザーは弾速が速いので、この間を全速力で移動しつづけましょう。
しかし直接的には、このレーザーを避ける時間稼ぎのために、左上に移動したのです。
4ウェイ青弾は右下端付近で避けましょう。
(左図を見れば、4ウェイ弾であることが明らかですね)
左図で残るレーザーを見てもわかりますが、直前の誘導レーザーとの間隔が短いです。
偶数弾は動かなければばあたらないはずですが、その発射前にあらかじめ静止しておくことは極めて困難です。
よってアドリブ避けしかありません。
ただ大きく動かなければ、弾の狙いがばらけず避けやすいでしょう。
いまだ直前の4ウェイ弾が撃ち終わらないうちに、次の誘導レーザー(2)が始まりました。
この攻撃は発射時間が極めて短いです。
したがって、右下から左に動き続ければ、すぐに終了するでしょう。
こうして最初の赤弾の避けパターンに移行します。
すなわち、中央下付近で赤弾を引き付け、次は一気に左上に上るのですね。
机上の空論ではノーダメージです。
しかし実際は4ウェイ青弾を避けそこなったり、レーザーの直撃を受けたりしてしまいます。
ですがこれ以上はアドリブ避けの次元であったりするので、この付近が限界でしょう。
音楽が終わるまで生存できればそれなりにパターンが身についた証明になります。
またそれ以上生き残ることも、十分に可能です。
皆様が、ご自身でパターンを作成される際の指針になればよいと願って、ここに記すものです。
直接の契機は、如何に誘導レーザーを避けるかという点にありました。
誘導レーザーこそが、この形態の攻撃で最も特徴的であり、かつ絶望を誘うものであるからです。
左右の微動で避けられるものでもなし、大きく切り返してもだめでした。
しかし、ひたすらに横移動を続ければその間は安全であることはわかりました。
レーザーが自機狙いであることは明らかでしたから、この事実は割合と速く気が付きました。
ところが左右移動ではすぐに端に追い詰められます。
そこでさらに時間を稼ぐには、画面上に上る以外の選択肢はありません。
これでレーザーは避けられました。
レーザーをボスのすぐ左で避け終わったのでは、被弾は回避不可能です。
そこで先のパターンを逆転させることにしました。
ボスの間左から、下、右と動くのです。
こうすれば、青弾にたち向かうことは可能です。
つまり、敵の攻撃順を把握することが必要となったのです。
そこで紙に書き出し、以下の順であることが判明しました。
赤弾連射、誘導レーザー、青弾、誘導導レーザー
ポーズ機能を利用して調べたところ、4ウェイ弾の4連発であることが判明しました。
偶数弾なら動かなければ楽勝、と考えて試してみます。
ところが、直前のレーザーを避け終わらないうちに4ウェイ弾を撃たれることが多く、うまくいかないことがわかりました。
ならば結論は、アドリブ避け以外にありません。
難しいですが、練習しかないと悟ります。
対策は先ほどと同じく、横移動を続けるのみです。
先ほどは右下にいますから、左に避けるのが素直でしょう。
することこの過程で、ここでのレーザーの発射時間が短いことに気が付きます。
すなわち、誘導レーザーに二種類あることを知るのでした。
そこで次は、赤弾の攻撃でした。
自機狙いであることはすぐに気が付きます。
ならば先ほどと同じように、左、上と避ければよい事がわかります。
これで最初の誘導レーザーを避けられる位置に帰ってきたわけで、パターンは完成したはずでした。
その原因を探るしかありません。
ボスが左側に位置するときには、必然的に発射口と画面端が近いので、挟まれやすいことはわかりました。
ところが、ボスの移動法則はようとして掴めず、この作戦は断念しました。
しかし、ただでさえミスしやすい4ウェイ弾×2を画面上に上って避けるのは論外でした。
直接的には、このゲームのラスボスのパターンの転用でした。
(シューティングでは、他のパターンをそのまま転用できる場合が多い)
ようやくこれで正解、画面端と赤弾に挟まれることはなくなりました。
ようやくのパターン完成。